台积电7纳米强效版制程大发威，激励股价不断创高。
台积电上周一（7日）宣布，领先业界导入极紫外光（EUV）微影技术的7纳米强效版（N7+）制程，已协助客户产品大量进入市场，6纳米预计明年第1季试产。外界好奇，为何台积电一反常态，在周四（17日）法说前高调发新闻稿释出利多，分析师认为，当然冲着竞争对手三星而来，且这举动充满示威意味。
台积电指出，N7+制程今年第2季开始量产，是史上量产速度最快的制程之一，目前主要客户包括海思、超微等芯片大厂；台积电表示，在7纳米制程（N7）量产超过一年后，N7+良率已与N7相当接近。
台积电导入EUV微影技术让芯片得以持续微缩，因EUV波长较短，可更完美解析先进制程设计。
不过，台积电EUV利器却让三星满头包，尽管三星比台积电提早半年量产7纳米EUV，但8月下旬却传出三星EUV制程出包，导致良率大幅下滑，恐拖累高通5G芯片上市计划。
天下杂志报导，台积电不寻常地在法说前抢先释出N7+利多，还把过去只与客户分享的制造资讯，当成新闻稿高调发布，如此一反常态的举动，让美系外资分析师直指，「根本冲着三星而来」，向对手三星示威意味甚浓。
